Каталог библиотеки

Информация о документе /vufind/Record/iprbooks84417


Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники / Ф. А. Кузнецов [и др.]. - Новосибирск: Сибирское отделение РАН, 2013.

Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники

[электронный ресурс]

Новосибирск : Сибирское отделение РАН, 2013
Вид издания:
не установлен
Язык:
русский
Редактирование:
Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
Постоянный адрес этой страницы:
http://elib.pstu.ru/vufind/Record/iprbooks84417
Упрощённое библиографическое описание:
Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники / Ф. А. Кузнецов [и др.]. - Новосибирск: Сибирское отделение РАН, 2013.
Ссылка для рабочих программ:
Теги:
Добавить тег
Тегов пока нет, Ваш тег будет первым!